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芯片生產線廢水處理方法

標簽:芯片生產線廢水處理方法

今天漓源環(huán)保給大家講解芯片生產線廢水處理方法,在半導體制造技術中,通過一系列的光刻、刻蝕、沉積、離子注入、研磨、清洗等工藝形成具有各種功能的半導體芯片,然后將所述半導體芯片進行封裝和電性測試,并終形成終端產品。目前,在半導體芯片的制造過程中,會產生大量的工業(yè)廢水。

芯片生產線廢水處理方法

在現(xiàn)有的解芯片生產線廢水處理過程中,通常單獨使用序列間歇式活性污泥法(SBR)或生物接觸氧化法或曝氣生物濾池(BAF),均只能對廢水進行單一的處理,例如為過濾或微生物反應或去除毒性等,由于處理方式過于單一,這常常導致過濾物質很快堵塞的問題。因此,廢水處理仍有改善的空間。

主要目的在于提供一種芯片生產線的廢水處理方法,以解決現(xiàn)有技術存在的處理方式過于單一,這常常導致過濾物質很快堵塞的問題。

半導體芯片行業(yè)將生產廢水處理系統(tǒng)分為:含氨廢水處理系統(tǒng)、含氟廢水處理系統(tǒng)、CMP研磨廢水處理系統(tǒng)及酸堿廢水處理系統(tǒng)。

含氨廢水有兩部分,一部分是濃氨氮廢水,主要含氨氮和雙氧水,氨氮濃度達400~1200mg/L;另一部分是稀氨廢水,主要含氟化氨,氨氮濃度低于100mg/L。

含氟廢水處理系統(tǒng)

工藝中采用CaCl溶液代替?zhèn)鹘y(tǒng)去氟采用的消石灰,可減少氟化鈣污泥量、原料用量和堿液,同時,可避免粉態(tài)消石灰的逸散,防止管道堵塞,易于控制投加量,確保系統(tǒng)的穩(wěn)定高效運行。

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化工廢水深度處理方法

化工廢水深度處理方法

化工廢水作為水處理行業(yè)的難題,化工廢水如何深度處理?化工廢水該怎么進行深度處理呢?漓源環(huán)保和大家一起聊聊化工廢水深度處理方法。

2020-11-11

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